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三維云紋干涉儀：該設(shè)備用于測(cè)量試件在機(jī)械或熱載荷作用下的三維熱機(jī)械變形場(chǎng)（面內(nèi)的U,V場(chǎng)和離面的W場(chǎng)）。在電子封裝領(lǐng)域，該設(shè)備是重要的失效分析手段。

臥式光彈系數(shù)測(cè)試儀(ANA6000P-H)是應(yīng)用偏振光干涉原理對(duì)應(yīng)力作用下能產(chǎn)生人工雙折射材料做成的力學(xué)構(gòu)件模型進(jìn)行實(shí)驗(yàn)應(yīng)力測(cè)試的儀器，簡稱光彈儀。應(yīng)用它可以通過模型在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)進(jìn)行大型建筑構(gòu)件、水壩壩體、重型機(jī)械部件的應(yīng)力和應(yīng)力分布的測(cè)試，并可以在模型上直接看到被測(cè)件的全部應(yīng)力分布和應(yīng)力集中情況。

立式光彈測(cè)試儀：光彈系數(shù)測(cè)試儀(ANA6000P-V)是應(yīng)用偏振光干涉原理對(duì)應(yīng)力作用下能產(chǎn)生人工雙折射材料做成的力學(xué)構(gòu)件模型進(jìn)行實(shí)驗(yàn)應(yīng)力測(cè)試的儀器，簡稱光彈儀。應(yīng)用它可以測(cè)試 SiC晶圓、手機(jī)膜、顯示屏、石英玻璃等器件內(nèi)部的應(yīng)力雙折射/殘余應(yīng)力，以圖像形式直觀觀察被測(cè)件的應(yīng)力分布和應(yīng)力集中情況。